經(jīng)濟(jì)觀察網(wǎng) 記者 沈怡然 荷蘭政府要求ASML停止向中國(guó)提供DUV浸潤(rùn)式光刻機(jī)的消息得到了進(jìn)一步證實(shí)，這一次出口管制的范圍已經(jīng)精確到設(shè)備型號(hào)。

3月8日，荷蘭貿(mào)易和發(fā)展合作部長(zhǎng)Liesje Schreinemacher發(fā)布了一份主題為“宣布即將對(duì)先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備采取的出口管制措施”的公告表示，鑒于技術(shù)的發(fā)展和地緣政治的背景，政府已經(jīng)得出結(jié)論，有必要擴(kuò)大現(xiàn)有的特定半導(dǎo)體制造設(shè)備的出口管制。

當(dāng)日ASML以公告方式作出回應(yīng)：由于這些即將出臺(tái)的法規(guī)，ASML將需要申請(qǐng)出口許可證才能裝運(yùn)最先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV系統(tǒng)。ASML還將對(duì)管制范圍的推斷進(jìn)一步精確到兩款DUV浸潤(rùn)式光刻機(jī)TWINSCAN NXT：2000i、TWINSCAN NXT：2050i。

3月9日，記者就此向ASML進(jìn)一步詢(xún)問(wèn)。對(duì)方回應(yīng)稱(chēng)，基于公司的了解，出口限制將針對(duì)新設(shè)備和備件的發(fā)運(yùn)。

一位熟悉半導(dǎo)體建廠(chǎng)的人士對(duì)記者稱(chēng)，從目前公開(kāi)的信息看，管制范圍是非常精確和具體的。通常來(lái)說(shuō)，使用者（半導(dǎo)體制造廠(chǎng)）進(jìn)入40/45nm節(jié)點(diǎn)后就需要使用浸潤(rùn)式DUV，其中1980Di的使用在這個(gè)階段較為普遍。2000i和2050i兩款設(shè)備則更為先進(jìn)，是有可能幫助使用者生產(chǎn)先進(jìn)芯片的，也就是14nm及以下的芯片。

該人士稱(chēng)，從這兩款設(shè)備的適用范圍來(lái)看，不涉及目前中國(guó)絕大部分的制造廠(chǎng)，使用者集中在少數(shù)頭部半導(dǎo)體制造廠(chǎng)，這些制造廠(chǎng)各自擁有不止一條產(chǎn)線(xiàn)，不同規(guī)模的產(chǎn)線(xiàn)所使用的機(jī)器數(shù)量不同，無(wú)法推斷出每家公司具體的裝機(jī)量。

就上述荷蘭方面行為，3月9日，中國(guó)外交部發(fā)言人毛寧在例行記者會(huì)上表示，中方注意到有關(guān)報(bào)道，對(duì)荷方以行政手段干預(yù)限制中荷企業(yè)正常經(jīng)貿(mào)往來(lái)的行為表示不滿(mǎn)，已向荷方提出交涉。希望荷方秉持客觀公正立場(chǎng)和市場(chǎng)原則，尊重契約精神，不濫用出口管制措施，維護(hù)國(guó)際產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈穩(wěn)定和自由開(kāi)放的國(guó)際貿(mào)易秩序，維護(hù)中荷兩國(guó)和雙方企業(yè)共同利益。

浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)受限

光刻機(jī)按照光源波長(zhǎng)可以劃分為DUV和EUV系統(tǒng)。在DUV系統(tǒng)中，依照鏡頭和硅片之間的不同的介質(zhì)可劃分為干式DUV和浸潤(rùn)式DUV；從生產(chǎn)芯片的先進(jìn)性來(lái)看， EUV >DUV浸潤(rùn)式>DUV干式。

ASML在公告中將限制的范圍進(jìn)一步精確：新的出口管制措施并不針對(duì)所有浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)，而只涉及所謂“最先進(jìn)”的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。盡管尚未收到有關(guān)“最先進(jìn)”的確切定義的信息，ASML將其解讀為“關(guān)鍵的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)”，即TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。

根據(jù)官網(wǎng)，ASML推出的浸潤(rùn)式DUV有三款，依次是TWINSCAN NXT：1980Di、TWINSCAN NXT：2000i、TWINSCAN NXT：2050i。依照ASML所說(shuō)，受限制的只有后兩款2000i和2050i。根據(jù)官網(wǎng)，2000i和2050i都可用于高級(jí)邏輯芯片和 DRAM節(jié)點(diǎn)的大批量制造。

Liesje Schreinemacher在關(guān)于國(guó)家出口管制措施的設(shè)計(jì)中，以最先進(jìn)的深紫外（DUV）浸潤(rùn)式光刻和沉積技術(shù)舉例，認(rèn)為這些技術(shù)與其他某些先進(jìn)技術(shù)相結(jié)合，對(duì)先進(jìn)半導(dǎo)體的生產(chǎn)起到關(guān)鍵作用，而荷蘭在這方面又具有獨(dú)特的領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)。

在中國(guó)與ASML有直接供應(yīng)關(guān)系的企業(yè)主要是芯片制造商，有中芯國(guó)際、華力半導(dǎo)體、長(zhǎng)江存儲(chǔ)等中國(guó)企業(yè)，還有三星的西安工廠(chǎng)、臺(tái)積電南京廠(chǎng)、英特爾大連廠(chǎng)、無(wú)錫SK海力士廠(chǎng)等外資企業(yè)。

上述人士稱(chēng)，目前全國(guó)各地建設(shè)的半導(dǎo)體廠(chǎng)約有數(shù)百家，除了頭部的半導(dǎo)體廠(chǎng)，真正能用上浸潤(rùn)式DUV的工廠(chǎng)并不多，整體的建設(shè)處于尚未形成規(guī)模效益的初期階段，月產(chǎn)能達(dá)到數(shù)十萬(wàn)片晶圓的產(chǎn)線(xiàn)是非常少的。同時(shí)，這些產(chǎn)線(xiàn)不涉及先進(jìn)芯片，主要用于生產(chǎn)技術(shù)相對(duì)成熟的芯片，如功率器件等。

對(duì)于這類(lèi)光刻機(jī)在中國(guó)的裝機(jī)量，目前尚無(wú)相關(guān)的公開(kāi)數(shù)據(jù)。根據(jù)ASML提供的數(shù)據(jù)，目前全方位光刻解決方案下的裝機(jī)量在中國(guó)已超過(guò)1000臺(tái)，其中硬件上包括光刻機(jī)臺(tái)和量測(cè)機(jī)臺(tái)，但該公司沒(méi)有公布光刻機(jī)所占的比例。

精確的管制范圍

不過(guò)，這些管制措施需要一定時(shí)間才能付諸立法并生效。

在Liesje Schreinemacher的公告中表示，一些具體的國(guó)家出口管制措施是必要的，而且會(huì)涉及半導(dǎo)體生產(chǎn)周期中非常具體的技術(shù)，政府對(duì)最終所選的技術(shù)點(diǎn)是非常謹(jǐn)慎和精確的，以避免對(duì)價(jià)值鏈造成不必要的干擾，并考慮到國(guó)際公平競(jìng)爭(zhēng)的環(huán)境。政府的目標(biāo)是在夏季之前將先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備的部級(jí)法規(guī)發(fā)布在政府公報(bào)上。

半導(dǎo)體已成為中美兩個(gè)經(jīng)濟(jì)體之間日益加劇競(jìng)爭(zhēng)的關(guān)鍵戰(zhàn)場(chǎng)，ASML掌握的光刻技術(shù)是半導(dǎo)體生產(chǎn)工序中的關(guān)鍵。這家荷蘭公司已經(jīng)和中國(guó)有超過(guò)20多年的業(yè)務(wù)往來(lái)，目前在中國(guó)有1500名員工。記者從該公司獲悉，ASML中國(guó)還在2023年擴(kuò)充人力。

目前其對(duì)中國(guó)客戶(hù)的銷(xiāo)售可能再一次面臨限制。該公司曾在2023年1月發(fā)布公告稱(chēng)，一些關(guān)于先進(jìn)芯片制造技術(shù)的管制措施正在擬定中，包括但不限于先進(jìn)的光刻工具。公司一直與當(dāng)局討論任何擬議法規(guī)的潛在影響，以確保對(duì)全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈的影響得到適當(dāng)評(píng)估。

在3月8日的公告中，ASML預(yù)計(jì)，這些管制措施不會(huì)對(duì)其已發(fā)布的 2023 年財(cái)務(wù)展望以及于去年 11 月投資者日宣布的長(zhǎng)期展望產(chǎn)生重大性影響。

出于國(guó)際協(xié)定《瓦森納協(xié)定》等因素，在本次DUV浸潤(rùn)式光刻機(jī)受限之前， ASML的EUV光刻系統(tǒng)已經(jīng)受到限制。EUV光刻機(jī)是目前全球攻克7nm、5nm、3nm先進(jìn)芯片批量生產(chǎn)的關(guān)鍵設(shè)備。

一直以來(lái)，ASML無(wú)法向中國(guó)客戶(hù)出售EUV光刻機(jī)，出售這類(lèi)光刻機(jī)需要荷蘭政府的出口許可。但除此之外，ASML其他產(chǎn)品在中國(guó)一直未受到限制。